5m3/h-EDI裝置，EDI裝置概述：

　　EDI設備又稱連續電除鹽技術，它科學地將電滲析技術和離子交換技術融為一體，通過陽、陰離子膜對陽、陰離子的選擇透過作用以及離子交換樹脂對水中離子的交換作用，在電場的作用下實現水中離子的定向遷移，從而達到水的深度凈化除鹽，并通過水電解產生的氫離子和氫氧根離子對裝填樹脂進行連續再生，因此EDI制水過程不需酸、堿化學藥品再生即可連續制取高品質超純水，它具有技術、結構緊湊、操作簡便的優點，可廣泛應用于電力、電子、醫藥、化工、食品和實驗室領域，是水處理技術的綠色革命。這一新技術可以代替傳統的離子交換裝置，生產出電阻率高達16-18MΩ·CM的超純水。

5m3/h-EDI裝置，工作原理：

　　高純度水對許多工商業工程非常重要，比如：半導體制造業和制藥業。以前這些工業用的純凈水是用離子交換獲得的。然而，膜系統和膜處理過程作為預處理過程或離子交換系統的替代品越來越流行。如電除鹽過程（EDI）之類的膜系統可以很干凈地去除礦物質并可以連續工作。而且，膜處理過程在機械上比離子交換系統簡單得多，并不需要酸、堿再生及廢水中和。EDI處理過程是膜處理過程中增長較快的業務之一。EDI帶有特殊水槽，水槽里的液流通道中填充了混床離子交換樹脂。EDI主要用于把總固體溶解量（TDS）為1-20mg/L的水源制成8-17兆歐純凈水。

將離子交換樹脂充夾在陰/陽離子交換膜之間形成EDI單元。EDI工作原理如圖所示。 EDI組件中將一定數量的EDI單元間用網狀物隔開，形成濃水室。又在單元組兩端設置陰/陽電極。在直流電的推動下，通過淡水室水流中的陰陽離子分別穿過陰陽離子交換膜進入到濃水室而在淡水室中去除。而通過濃水室的水將離子帶出系統，成為濃水. EDI設備一般以反滲透（RO）純水作為EDI給水。RO純水電阻率一般是40-2μS/cm（25℃)。EDI純水電阻率可以高達18 MΩ.cm(25℃)，但是根據去離子水用途和系統配置設置，EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的純水。

　　ＥＤＩ裝置的特點ＥＤＩ裝置不需要化學再生,可連續運行,進而不需要傳統水處理工藝的混合離子交換設備再生所需的酸堿液,以及再生所排放的廢水。

EDI裝置模塊結構特點：

　　1、淡水隔板采用衛生級PE材料

　　2、EDI膜片采用進口均相膜和國產異相離子交換膜

　　3、采用進口EDI均粒樹脂和國產EDI均粒樹脂

　　4、EDI電極板采用鈦鍍釕技術

　　5、壓緊板采用具有硬性的合金鋁軋鑄而成。

　　6、固定螺絲采用國標標準件

　　7、膜堆出廠較高試壓7bar不漏水

　　8、膜堆電阻低、功耗小

　　9、外觀裝飾板造型美觀結實

　　10、較大膜堆處理水量3T/H，較小模堆處理水量75L/H

　　11、純水、濃水、極水通道設計合理，不易堵塞，水流分布均勻、*。

EDI裝置進水指標要求：

　　◎通常為單級反滲透或二級反滲透的滲透水

　　◎TEA（總可交換陰離子，以CaCO3計）：＜25ppm。

　　◎電導率：＜40μS/cm

　　◎ＰH：6.0～9.0。當總硬度低于0.1ppm時，EDI較好工作的pH范圍為8.0～9.0。

　　◎溫度： 5～35℃。

　　◎進水壓力：＜4bar（60psi）。

　　◎硬度：（以CaCO3計）：＜1.0ppm。

　　◎有機物（ TOC）：＜0.5ppm。

　　◎氧化劑：Cl2＜0.05ppm，O3＜0.02ppm。

　　◎變價金屬： Fe＜0.01ppm，Mn＜0.02ppm。

　　◎H2S：＜0.01ppm。

　　◎二氧化硅：＜0.5ppm。

　　◎色度：＜5APHA。

　　◎二氧化碳的總量：＜10ppm

　　◎ SDI 15min：＜1.0。